CIESコンソーシアム

国家プロジェクト

JSPS 研究拠点形成事業

研究拠点形成事業　ーA.先端拠点形成型ー
「スピントロニクス・二次元物質の縦型素子」

　本研究テーマは、次世代のスピントロニクス技術を創製するために、現在のスピントロニクス技術に二次元物質を相乗させて、新しい縦型素子を提案するものです。日本、英国、仏国に加えて米国の特徴ある研究を融合することを目的としています。日本国内では、東北大学を中心として、名古屋大学、神戸大学、東京大学と連携します。

1. 日英連携
   英国ケンブリッジ大学は世界トップレベルの二次元物質の製膜技術および理論解析を有しています。日本のスピントロニクス技術を融合させ、新しい二次元物質を障壁層とした縦型接合素子の作製を行います。
2. 日仏連携
   仏国アルバートフェルト研究所並びにパリ・サクレー大学は、2007年にノーベル物理学賞を受賞したアルバートフェルト博士を筆頭に最先端のスピントロニクス基礎研究および理論の構築を行ってきました。本研究では、二次元物質の高度な最先端加工技術により新しいスピントロニクス素子の創製に寄与します。
3. 日米連携
   スピントロニクス素子の新しい用途として、神経細胞から漏洩する発火信号の検出および脳への埋め込み式バイオセンシングに関してスタンフォード大学工学部・医学部と連携します。